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胡跃强

发布于:2019-02-16 星期六 22:06:40 点击数:591

胡跃强,男,1992年生,湖南大学机械与运载工程学院助理教授。2013年于西南交通大学获得学士学位,2018年于清华大学获得博士学位,机械工程专业,2016年9月至2017年12月赴加州大学伯克利分校交流访问,2018年加入湖南大学。目前研究方向为微纳制造、微纳光学、光学超表面、人工智能光子学、表界面科学等,欢迎感兴趣的学生讨论交流。

基本信息

姓名:胡跃强

系别:机械制造系

职称/职务:助理教授

E-mail:huyq@hnu.edu.cn 


教育背景

  1. 2013.09-2018.07,清华大学,机械工程,博士,导师:孟永钢 教授

  2. 2016.07-2017.12,加州大学伯克利分校, 机械工程, 联合培养博士,导师:David Bogy 教授

  3. 2009.09-2013.06,西南交通大学,机械设计及其自动化,学士


工作履历

  1. 2018.07-至今,湖南大学,机械与运载工程学院,助理教授

  2. 2016.9-2017.12,加州大学伯克利分校, Research Assistant


研究领域

研究方向:

  1. 光学超表面器件:基于广义折反射定律的第三代光学元件的研究,如超透镜器件、超表面全息投影器件等。

  2. 人工智能光子学:人工智能算法应用于光学元件的逆向设计相关研究。

  3. 微纳制造:电子束、离子束、表面等离子体光刻、全息微打印等微纳制造方法相关研究。

  4. 微纳系统中的表界面科学:纳米间隙的光-机-热多物理场耦合问题相关研究。

科研团队每年招收硕士研究生5~6人。欢迎对纳米科技、表面工程、光学、人工智能、仿生等方向感兴趣的同学加入课题组,专业背景可以是机械制造、力学、物理学、光学工程、材料科学等。



科研项目

  1. 湖南大学科研启动经费及人才项目专项经费,超表面光学元件设计及制造,2018/09-2022/12,25万,在研,负责

  2. 国家自然科学基金青年科学基金项目,51805547,近场光刻深宽比与界面稳定性的调控机理与实验研究,2019/01-2021/12,26万,在研,参与。

  3. 国家自然科学重点项目,51635009,磨合过程界面结构演化规律与调控的研究,2017/01-2021/12,285万,在研,参与

  4. 国家自然科学基金青年科学基金项目,51505250,基于接触区几何形貌的微纳粘着和界面现象演化规律的AFM研究,2016/01-2018/12,22万,结题,参与。


学术成果

代表性论文(#为共同一作,*为通讯作者):

  1. Y. Hu#, X. Luo, Y. Chen, Q. Liu, X. Li, Y. Wang, N. Liu, H. Duan, 3D-Integrated Metasurfaces for Full-Color Holography. Nano Lett., (2019). (Submitted)

  2. Y. Hu#, H. Wu, Y. Meng, Y. Wang, D. Bogy, Head flying characteristics in heat assisted magnetic recording considering various nanoscale heat transfer models. J. Appl. Phys. 123, 34303 (2018).(Featured Article)

  3. Y. Hu#, H. Wu, Y. Meng, D. B. Bogy, Nanoscale thermal analysis for heat-assisted magnetic recording. J. Appl. Phys. 122, 134303 (2017).

  4. Y. Hu#, Y. Meng, Numerical modeling and analysis of plasmonic flying head for rotary near-field lithography technology. Friction 6, 443 (2018).

  5. J. Ji, Y. Hu#, Y. Meng, J. Zhang, J. Xu, S. Li, G. Yang, The steady flying of a plasmonic flying head over a photoresist-coated surface in a near-field photolithography system. Nanotechnology 27, 185303 (2016).

  6. J. Ji, Y. Meng, Y. Hu#, J. Xu, S. Li, G. Yang, High-speed near-field photolithography at 1685 nm linewidth with linearly polarized illumination. Opt. Express 25, 17571 (2017).

专利:

孟永钢; 胡跃强(#); 纪佳馨; 王鸿栋, 等离子体透镜、空气轴承、飞行头、纳米加工系统及应用, 2016.10.24, 中国, 201610926129.4 (发明专利)

刘宇宏; 王鸿栋; 陈哲; 雒建斌; 任婧; 胡跃强, 一种水滑石纳米添加剂的制备与应用方法, 2017.06.30, 中国, CN201510282938.1 (发明专利)